特許

J-GLOBAL ID：200903014388930701

記録媒体の製造方法、および記録媒体製造用原盤の製造方法

発明者： 木島 公一朗
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-047819
公開番号（公開出願番号）：特開2001-243662
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】 微細凹凸を有する記録媒体の製造方法、および記録媒体製造用原盤の製造方法において、微細凹凸形成における感光性材層の密着性を充分高め、 また、これに伴う製造工程数の増加の抑制を図る。【解決手段】 感光性材料層に対するパターン露光および現像処理によるパターニング工程を経て微細凹凸を有する記録媒体を製造する記録媒体の製造方法にあって、記録媒体の構成基板1上に、感光性材料層5の密着性を向上し、感光性材料層に対する現像処理の現像液に対し溶解性を示す下地層4を形成し、この下地層上に感光性材料層を形成するものであり、この下地層に対するパターン化を、感光性材料層に対するパターン露光後の現像処理と同時に行うことができるようにする。

請求項（抜粋）：

感光性材料層に対するパターン露光および現像処理によるパターニング工程を経て微細凹凸を有する記録媒体を製造する記録媒体の製造方法にあって、上記記録媒体の構成基板上に、上記感光性材料層の密着性を向上し、上記感光性材料層に対する上記現像処理の現像液に対し溶解性を示す下地層を形成する工程と、該下地層上に感光性材料層を形成する工程と、上記感光性材料層に対する上記微細凹凸に応じたパターン露光工程と、上記現像液によって、上記感光性材料層のパターニングと、該パターニングによる上記感光性材料層の開口を通じて上記下地層を溶解するパターニングとを同時に行う現像工程とを有することを特徴とする記録媒体の製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 531

FI (2件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 531

Fターム (11件)：

5D121AA01 ,  5D121BA03 ,  5D121BA05 ,  5D121BB04 ,  5D121BB21 ,  5D121BB28 ,  5D121DD11 ,  5D121DD13 ,  5D121EE26 ,  5D121GG04 ,  5D121JJ07