特許

J-GLOBAL ID：200903014395737089

洗浄剤

発明者： オスカー ヴァック ,  マルティン ハネク
出願人/特許権者： ドクトル.オ-.カー.ヴァック ヒェミー ゲーエムベーハー
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159879
公開番号（公開出願番号）：特開平6-108097
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 特に電子部品、光学部品および回路板の洗浄のための、生物学的に無害なフロン不含の洗浄剤を提供する。【構成】 式(1)のジプロピレングリコールモノエーテルをキャリヤーとし、式(2)のn-アルキルラクタム及び式(3)のポリプロピレングリコールエーテル類を活性成分とする洗浄剤。(式中、R1〜R3は炭素鎖であり、R4は水素あるいは炭素鎖である)

請求項（抜粋）：

式【化1】(式中、R1 は1ないし6炭素原子長さの炭素鎖である)で示されるジプロピレングリコールモノエーテルをキャリヤー化合物とし、式【化2】(式中、R2 は1ないし10炭素原子長さの炭素鎖である)で示されるN-アルキル-ラクタム30〜70重量%、あるいはジヒドロ-2(3H)-フラノン30〜70重量%および式【化3】(式中、R3 は1ないし6炭素原子長さの炭素鎖であり、R4 は水素あるいは1ないし6炭素原子長さの炭素鎖である)で示されるポリプロピレングリコールエーテル10〜30重量%を含有してなる洗浄剤。

IPC (6件)：

C11D 7/50 ZAB ,  D06L 1/12 ,  H05K 3/26 ,  C11D 7/50 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32