特許

J-GLOBAL ID：200903014399918770

レジスト組成物

発明者： 小太刀 明子
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-222007
公開番号（公開出願番号）：特開2000-056459
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】 半導体集積回路等の製造において微細加工用に用いられるArFエキシマレーザ光等の短波長光での露光を可能にするネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明のレジスト組成物は、ラクトン化により分子内エステルを作る基をエステル部に持つα置換アクリル酸エステルの重合体と、酸発生剤とを含む。この重合体は、下記の繰返し単位を持つことができる。【化1】(この式のR1 、R2 は炭素数1〜6の炭化水素基であり、mは2〜4の整数である)

請求項（抜粋）：

ラクトン化により分子内エステルを作る基をエステル部に持つα置換アクリル酸エステルの重合体と、光酸発生剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (10件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45