特許
J-GLOBAL ID:200903014405049704

化粧料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加藤 朝道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-021659
公開番号(公開出願番号):特開2005-213362
出願日: 2004年01月29日
公開日(公表日): 2005年08月11日
要約:
【課題】優れた分散性及び分散安定性を有する表面処理粉体及び経時の分散安定性等に優れた化粧料の提供。【解決手段】PMMA、ナイロン、ポリスチレン、シリコーンエラストマーパウダー、ベンゾグアナミン、スチレンジビニルベンゼンピンホールポリマー、四弗化エチレン、ポリエチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、シルクパウダー及び有機顔料並びにこれら1種以上と金属酸化物及び/又は金属水酸化物との複合体から選択される少なくとも1種の粉体の粒子の表面を低分子有機ケイ素誘導体、又は低分子有機ケイ素誘導体及び水溶性カチオンポリマーで表面処理することにより、これらの粉体を親水化する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
表面処理粉体において、 表面処理される粉体が、PMMA、ナイロン、ポリスチレン、シリコーンエラストマーパウダー、ベンゾグアナミン、スチレンジビニルベンゼンピンホールポリマー、四弗化エチレン、ポリエチレンパウダー、ポリウレタンパウダー、シルクパウダー及び有機顔料並びにこれら1種以上と金属酸化物及び/又は金属水酸化物との複合体から選択される少なくとも1種であり、 当該表面処理される粉体の粒子の表面が、低分子有機ケイ素誘導体、又は低分子有機ケイ素誘導体及び水溶性カチオンポリマーで被覆されていることを特徴とする表面処理粉体。
IPC (4件):
C08J3/12 ,  A61K7/00 ,  A61K7/02 ,  A61K7/021
FI (9件):
C08J3/12 Z ,  A61K7/00 L ,  A61K7/00 N ,  A61K7/00 P ,  A61K7/00 R ,  A61K7/00 S ,  A61K7/00 U ,  A61K7/02 P ,  A61K7/021
Fターム (61件):
4C083AA112 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB282 ,  4C083AB332 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC022 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC372 ,  4C083AC422 ,  4C083AC622 ,  4C083AD042 ,  4C083AD052 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD172 ,  4C083AD242 ,  4C083AD272 ,  4C083AD352 ,  4C083AD392 ,  4C083BB21 ,  4C083BB25 ,  4C083CC01 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083CC12 ,  4C083CC36 ,  4C083DD05 ,  4C083DD08 ,  4C083DD11 ,  4C083DD21 ,  4C083DD30 ,  4C083DD32 ,  4C083DD33 ,  4C083DD34 ,  4C083DD41 ,  4C083EE01 ,  4C083EE07 ,  4C083EE26 ,  4F070AA13 ,  4F070AA18 ,  4F070AA24 ,  4F070AA32 ,  4F070AA53 ,  4F070AA54 ,  4F070AA56 ,  4F070AA60 ,  4F070AA62 ,  4F070AC13 ,  4F070AC67 ,  4F070AC72 ,  4F070AC83 ,  4F070AE14 ,  4F070DB03
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (2件)
  • 化粧料及び表面処理剤
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-156503   出願人:株式会社資生堂
  • 化粧料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-013698   出願人:有限会社野々川商事

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