特許

J-GLOBAL ID：200903014414246938

イオン光学描写装置

発明者： ゲルハルト シュテングル ,  アルフレツド チャルプカ ,  ヘルベルト ヴオナツハ
出願人/特許権者： イーエムエス イオーネン ミクロファブリカチオンス ジステーメ ゲゼルシャフト ミト ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-221625
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226209
出願日： 1992年08月20日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 大きな波長の光の利用が可能になる等装置の制限を回避するイオン光学描写装置を提供する。【構成】 マスクMとウエーハWとの間に配置された2枚の収束レンズL1,L2からなる組み合わせを備え、マスクMがそれに続いている収束レンズL1のほぼ物体側の焦点面内にかつウエーハWがマスクMに続いている第2収束レンズL2の像側焦点面の周囲に位置決めされかつ好ましくは前記マスクMに続いている第2収束レンズL2の前記物体側の焦点面が前記マスクMに続いている第1収束レンズL1のクロスオーバーを含み、マスクM上に存在する構造が1またはそれ以上の開口の形状においてレンズ系を介してウエーハW上に形成され、また2つの収束レンズからなる組み合わせが特別な加速ユニツトレンズおよび加速非対称ユニツトレンズから形成される。

請求項（抜粋）：

マスクとウエーハとの間に配置された2枚の収束レンズからなる組み合わせを備え、そのさい前記マスクが該マスクに続いている収束レンズのほぼ物体側の焦点面内にかつ前記ウエーハが前記マスクに続いている第2収束レンズの像側焦点面の周囲に位置決めされかつ好ましくは前記マスクに続いている第2収束レンズの前記物体側の焦点面が前記マスクに続いている第1収束レンズのクロスオーバーを含む、前記マスク上に存在する構造が1またはそれ以上の開口の形状においてレンズ系を介してウエーハ上に形成されるイオン光学描写装置において、2つの収束レンズからなる組み合わせが特別な加速ユニツトレンズおよび加速非対称ユニツトレンズから形成され、そのさい前記特別な加速ユニツトレンズが前記マスクに続きかつ前記非対称の加速ユニツトレンズが前記ウエーハの前に配置されることを特徴とするイオン光学描写装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/20 521