特許

J-GLOBAL ID：200903014418525718

金属研磨用組成物

発明者： 山下 克宏
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-050123
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266597
出願日： 2007年02月28日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：

【課題】研磨条件を変更した際にも面内均一性の変化幅が低減された、研磨特性の安定性に優れた金属研磨用組成物を提供する。【解決手段】短径/長径比が0.2から0.8であり、且つ、表面の少なくとも一部がアルミニウム原子で覆われているコロイダルシリカ粒子を全砥粒の50%以上含有し、好ましくは、酸化剤、有機酸などを含有する金属研磨用組成物である。該コロイダルシリカ粒子を構成するコロイダルシリカはアルコキシシランの加水分解法で形成されていることが好ましく、コロイダルシリカ粒子の長径は20nmから100nmの範囲にあることが好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

短径/長径比が0.2から0.8であり、且つ、表面の少なくとも一部がアルミニウム原子で覆われているコロイダルシリカ粒子を全砥粒の50%以上含有することを特徴とする金属研磨用組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (7件)：

3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB04 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 単結晶ダイヤモンドをその先端に有するエンドミル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-360087   出願人：マイクロ・ダイヤモンド有限会社
• メタル膜絶縁膜共存表面研磨用コロイダルシリカ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-394414   出願人：イーケーシー・テクノロジー株式会社