特許
J-GLOBAL ID:200903014418608508
純粋な溶融シリカ、炉および方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
柳田 征史 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-521668
公開番号(公開出願番号):特表2003-508337
出願日: 2000年09月08日
公開日(公表日): 2003年03月04日
要約:
【要約】比較的純粋なシリカからなる物品と、炉(50)と、かかる物品を製造するための方法。この物品は、耐火物(32)の少なくとも一部をハロゲン含有ガスに暴露して耐火物(32)中の汚染金属イオンと反応させた耐火炉(50)中でシリカの溶融粒子(30)を回収する。
請求項(抜粋):
ケイ素含有化合物を火炎中に導入してシリカの溶融粒子を形成し、アルミナ耐火材料で築造された炉内で上記の粒子を溶融シリカ体の形で回収することによって、溶融シリカ体を製造する改良された方法であって、 汚染金属と反応させて当該汚染金属の耐火物を浄化するための反応性ハロゲン含有ガスに少なくとも一部を事前に暴露した炉内でシリカ粒子を回収する工程を含む、改良された方法。
IPC (5件):
C03B 20/00
, C01B 33/12
, C03B 5/43
, C03B 8/04
, F27D 1/02
FI (7件):
C03B 20/00 D
, C01B 33/12 E
, C03B 5/43
, C03B 8/04 E
, C03B 8/04 P
, C03B 8/04 Q
, F27D 1/02
Fターム (20件):
4G014AH11
, 4G072AA25
, 4G072AA28
, 4G072AA37
, 4G072BB05
, 4G072BB14
, 4G072BB15
, 4G072CC18
, 4G072GG03
, 4G072GG04
, 4G072GG05
, 4G072HH14
, 4G072JJ34
, 4G072TT19
, 4K051AA09
, 4K051AB01
, 4K051BB02
, 4K051BE01
, 4K051CA00
, 4K051DA12
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