特許

J-GLOBAL ID：200903014420464912

基板処理装置の制御装置及び基板処理システム

発明者： 足立 高夫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-364663
公開番号（公開出願番号）：特開2002-170755
出願日： 2000年11月30日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】 本発明の課題は、液晶表示パネルやプラズマ表示パネル等に用いるガラス基板、半導体ウエハ等の基板処理装置において、各基板の位置等の基板情報を把握して適切な制御を行えるようにすることである。【解決手段】 基板処理装置1の各処理ユニット10〜70から送信される基板情報(処理ユニット名、ポジション名、ロット番号、基板番号等)を受信する受信手段と、各処理ユニット10〜70の配置を模式的に表示するためのグラフィックデータを格納している記憶手段と、受信した基板情報とグラフィックデータとを対応付ける割り付け手段と、対応付けられた基板情報及びグラフィックデータを表示する表示手段240とを備える基板処理システム。

請求項（抜粋）：

基板を複数の処理ユニット間で移動させ所定の処理を行う基板処理装置を制御する制御装置であって、前記各処理ユニットから送信される基板の情報を受信する受信手段と、前記各処理ユニットの配置を模式化して示すためのグラフィックデータを格納する記憶手段と、前記グラフィックデータと前記受信された基板の情報とを対応づける割付手段と、前記割付手段により対応づけられた前記グラフィックデータ及び前記基板の情報を表示する表示手段と、を備えた基板処理装置の制御装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101

FI (3件)：

G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 562 ,  H01L 21/30 514 D

Fターム (9件)：

2H088FA21 ,  2H088FA24 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  5F046AA28 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046DD01