特許

J-GLOBAL ID：200903014421358709

薄膜構造製造方法

発明者： コルネリウス ファン ベルケル
出願人/特許権者： エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-028051
公開番号（公開出願番号）：特開平6-110086
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】 既知の方法は、異なる材料よりなる層のパターンを限定するのに多数のホトマスクを要する一連の写真プロセスを必要とし、製造工程における熱サイクル中、ホトマスクと基板間の正しい配列を確保しうるような充分な硬さを基板に保持させるを要し、これが難しく、かつ高価となった。本発明は上記の諸問題を軽減するようにした簡便、確実かつ安価な薄膜製造方法を提供することを目的とする。【構成】 基板の対向面に、隣接して光遮蔽パターン(20, 54)を設け、光遮蔽パターン上に放射を指向させ、それぞれの層に対する露光放射の方向を変えてデポジット薄膜層を写真蝕刻的にパターン付けすることにより、同一光遮蔽パターンを使用して種々のパターン付けを与える。

請求項（抜粋）：

基板の対向する面に隣接して光遮蔽パターンを設け、光遮蔽パターン上に指向させた放射を用いて、該光遮蔽パターンにしたがい1つの面上に第1薄膜層を写真蝕刻的にパターン付けするステップを含む所定パターンの複数の薄膜層を具えた薄膜構造を透明基板の1つの面上に製造する方法において、該第1薄膜層をパターン付けするのに使用した方向と異なる基板に対する方向で該光遮蔽パターン上に指向させた放射を用いて基板の1つの面上に第2薄膜層を写真蝕刻的にパターン付けするステップを含むことを特徴とする薄膜構造製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/136 510 ,  G02F 1/1343 ,  G03F 7/22 ,  H01L 29/784

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公昭44-032745
  
• 特開昭60-149025
  
• 特開昭62-132367