特許
J-GLOBAL ID：200903014434884396

晶析器の運転方法

発明者：
古賀 芳夫

古賀 芳夫 について

, 
石川 昭夫

石川 昭夫 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-327541
公開番号（公開出願番号）：特開2003-126607
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月07日
要約：
【要約】【課題】 冷却式晶析操作において、結晶を連続的かつ安定的に生成させ、後工程の運転を安定化し、それに伴う生産能力の向上を可能とする晶析器の運転方法を提供する。【解決手段】 伝熱面を介して熱交換を行う冷却器を備えた晶析器の、プロセス側流路に晶析原料溶液を、また冷媒側流路に冷媒を、それぞれ供給して晶析操作を行うに当たり、下記式(1):Rp=1/h1+rs1+Cc+rs2 (1)(ただし、式(1)において、h1はプロセス側境膜伝熱係数を、rs1はプロセス側汚れ係数を、Ccは伝熱面の寸法及び材質により決定される伝導伝熱抵抗係数を、rs2は冷媒側汚れ係数を、それぞれ表す。)で定義されるプロセス側伝熱抵抗Rpを継続的に監視し、その値の変化を指標として、晶析器の運転条件の変更、冷却器の切り替え、または冷却器の再生処理条件の変更を行う晶析器の運転方法。
請求項（抜粋）：
伝熱面を介して熱交換を行う冷却器を備えた晶析器の、プロセス側流路に晶析原料溶液を、また冷媒側流路に冷媒を、それぞれ供給して晶析操作を行うに当たり、下記式(1):【数1】Rp=1/h1+rs1+Cc+rs2 (1)(ただし、式(1)において、h1はプロセス側境膜伝熱係数を、rs1はプロセス側汚れ係数を、Ccは伝熱面の寸法及び材質により決定される伝導伝熱抵抗係数を、rs2は冷媒側汚れ係数を、それぞれ表す。)で定義されるプロセス側伝熱抵抗Rpを継続的に監視し、その値の変化を指標として、晶析器の運転条件の変更、冷却器の切り替え、または冷却器の再生処理条件の変更を行うことを特徴とする晶析器の運転方法。
IPC (7件)：
B01D 9/02 625 ,  B01D 9/02 602 ,  B01D 9/02 603 ,  B01D 9/02 604 ,  B01D 9/02 611 ,  B01D 9/02 620 ,  B01J 19/00 301
FI (7件)：
B01D 9/02 625 Z ,  B01D 9/02 602 B ,  B01D 9/02 603 D ,  B01D 9/02 604 ,  B01D 9/02 611 A ,  B01D 9/02 620 ,  B01J 19/00 301 B
Fターム (10件)：
4G075AA22 ,  4G075AA35 ,  4G075BB10 ,  4G075BD10 ,  4G075BD16 ,  4G075CA03 ,  4G075DA01 ,  4G075EA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01
引用特許：
審査官引用 (1件)

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