デンプン構造化系により安定化されたパーソナル液体洗浄組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：川口義雄 , 小野誠 , 渡邉千尋 , 金山賢教 , 大崎勝真 , 坪倉道明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-517033
公開番号（公開出願番号）：特表2007-538023
出願日： 2005年05月09日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：

本発明は、組成物を構造化するために水溶性又は水膨潤性デンプンを含有するパーソナルウォッシュ液体洗浄剤に関する。

請求項（抜粋）：

パーソナルウォッシュ液体洗浄組成物:(該組成物は、 (1)陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤又はこれらの混合物から選択される界面活性剤2%から30%と; (2)修飾又は非修飾デンプン粒を組成物全体の約6%から30%含有する構造化系;と、及び (3)0から30%の有益物質と、を含有(重量%)し; 該組成物のpHは、4.0から9.0であり; 該組成物は、室温及び45°Cの両方で、目に見える相分離なく3週間以上にわたり安定であり; 液体の最終粘度は、Haake RV20 Rotovisco Rheometerを用いて25°Cにて測定した場合、1sec-1で10から500Pascalの範囲であり; 修飾デンプンは、水中でのデンプンの溶解性又は膨潤性を向上させるための物理的又は化学的修飾を指す。)。

IPC (2件)：

A61K 8/73 , A61Q 19/10

FI (2件)：

A61K8/73 , A61Q19/10

Fターム (31件)：

4C083AA122 , 4C083AB242 , 4C083AB432 , 4C083AC012 , 4C083AC122 , 4C083AC242 , 4C083AC482 , 4C083AC532 , 4C083AC642 , 4C083AC662 , 4C083AC782 , 4C083AC792 , 4C083AC902 , 4C083AD022 , 4C083AD131 , 4C083AD132 , 4C083AD152 , 4C083AD212 , 4C083AD241 , 4C083AD242 , 4C083AD352 , 4C083BB04 , 4C083BB05 , 4C083BB06 , 4C083BB07 , 4C083BB44 , 4C083CC23 , 4C083DD41 , 4C083EE01 , 4C083EE03 , 4C083EE06

引用特許：

審査官引用 (7件)

界面活性剤組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-530062 出願人：インペリアル・ケミカル・インダストリーズ・ピーエルシー
デンプン含有化粧品組成物および洗浄組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-504787 出願人：ナショナル・スターチ・アンド・ケミカル・インベストメント・ホールディング・コーポレーション
皮膚及び毛髪洗浄剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-360589 出願人：花王株式会社

全件表示

前のページに戻る