特許
J-GLOBAL ID：200903014462620710
成膜装置及びこの装置における堆積膜除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-201483
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036052
出願日： 1995年07月14日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 反応容器の堆積膜を効率的且つ的確に除去し得るようにした成膜装置を提供する。【解決手段】 反応容器1内に被成膜基板を収容し、該基板上に成膜する。反応容器1の周囲に配置されたヒータ2と、ヒータ2の加熱出力を制御する電源3と、ヒータ2の加熱出力を測定するヒータ出力モニタ4と、反応容器1内の温度を検出する熱電対5と、熱電対5によって反応容器1内の温度を測定表示する温度モニタ6と、反応容器1内に所定のエッチングガスを供給するようにしたガス給排手段7と、を備えている。熱電対5によって測定される温度モニタ6における測定温度が一定になるように、電源3によってヒータ2を加熱させる。
請求項（抜粋）：
反応容器内に被成膜基板を収容し、該基板上に成膜する成膜装置であって、前記反応容器の周囲に配置された加熱手段と、この加熱手段の加熱出力を制御する駆動手段と、前記反応容器内の温度を検出する温度検出手段と、前記反応容器内に所定のガスを供給すると共に該反応容器を排気するガス給排手段と、を備え、前記被成膜基板に対する成膜後、前記反応容器内にエッチングガスを導入して堆積膜を除去する際、前記反応容器内の温度が一定になるようにしたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44 J
