特許
J-GLOBAL ID:200903014462893643

排水回収装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-098434
公開番号(公開出願番号):特開平5-293471
出願日: 1992年04月20日
公開日(公表日): 1993年11月09日
要約:
【要約】【目的】 排水回収装置に係り,特に半導体装置の製造工程における排水回収装置に関し,排水から不純物を除去して回収する装置を目的とする。【構成】 直列に接続されたn(n≧2)段のサブ処理装置を備え,各段のサブ処理装置は排水のイオン交換処理を行うイオン交換膜装置1a〜1nと,処理された排水を入れる処理水槽2a〜2nと, 処理された排水の導電率を測定する導電率計3a〜3nとを有し,各段のサブ処理装置は,導電率計3a〜3nの測定結果に基づき,導電率が予め定めた値より高い時は次段のサブ処理装置に排水を供給し,導電率が予め定めた値より低い時は処理された排水を回収する機構4a〜4n, 5a〜5nを備えた排水回収装置により構成する。
請求項(抜粋):
半導体装置の製造工程で生じた排水を回収する排水回収装置であって,イオン交換膜を含むイオン交換膜装置(1a 〜1n) を有することを特徴とする排水回収装置。
IPC (2件):
C02F 1/469 ,  H01L 21/304 341

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