特許
J-GLOBAL ID：200903014471878533
高密度記録用磁性膜を形成するためのスパッタリングターゲット材およびその製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-113977
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315180
出願日： 1992年04月06日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】【目的】 不純物の混入がなく、且つ高密度でスパッタリング時に異常放電を起こすこともなく、均質で高記録密度の垂直記録磁性膜を与えるスパッタリングターゲット材およびその製造方法を提供すること。【構成】 見かけ密度が3.5 以上のバリウム・フェライト系成形・焼結体よりなるターゲット材であり、この様なターゲット材は、バインダを使用することなく、バリウム・フェライト系の原料粉末を特定の条件でCIP処理した後、1000°C以上で加熱焼結し、あるいは600 °C以上、800kg/cm2以上でHIP処理することによって得ることができる。
請求項（抜粋）：
バリウム・フェライト系圧粉成形体を焼結し、見かけ密度を3.5 以上としたものであることを特徴とする高密度記録用磁性膜を形成するためのスパッタリングターゲット材。
IPC (2件)：
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