高圧ガス供給装置及び高圧ガス供給設備

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：角田芳末 , 伊藤仁恭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-203483
公開番号（公開出願番号）：特開2008-032053
出願日： 2006年07月26日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】移動の際に便利であって、狭い場所でも簡単に設置することができる高圧ガス供給装置を提供する。【解決手段】ユニットにより構成される高圧ガス供給装置であって、前記ユニットの本ユニット110,120は、枠体5と、枠体に収納された複数の蓄圧器1a〜1dと、昇圧器から送られる高圧ガスを蓄圧器内に供給する供給配管11と、蓄圧器内の高圧ガスをディスペンサーに供給する供給配管12と、前記供給配管に設けられた自動開閉弁2a〜2dと、他の本ユニットを接続するための接続用配管9と、増設用ユニットを接続するための増設用配管6と、により構成されている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ユニットにより構成される高圧ガス供給装置であって、前記ユニットの本ユニットは、枠体と、枠体に収納された複数の蓄圧器と、昇圧器から送られる高圧ガスを蓄圧器内に供給する供給配管と、蓄圧器内の高圧ガスをディスペンサーに供給する供給配管と、前記供給配管に設けられた自動開閉弁と、他の本ユニットを接続するための接続用配管と、増設用ユニットを接続するための増設用配管と、を備えていることを特徴とする高圧ガス供給装置。

IPC (1件)：

F17C 7/00

FI (1件)：

F17C7/00 A

Fターム (15件)：

3D026CA05 , 3E172AA02 , 3E172AA05 , 3E172AB01 , 3E172AB04 , 3E172BA01 , 3E172BB14 , 3E172BB17 , 3E172BC01 , 3E172BC05 , 3E172CA24 , 3E172DA36 , 3E172EB02 , 3E172JA08 , 3E172KA22

引用特許：

出願人引用 (1件)

ガス充填システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-363689 出願人：株式会社タツノ・メカトロニクス

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