特許

J-GLOBAL ID：200903014501519541

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 北折 智之 ,  小柳 敬夫 ,  福永 誠規 ,  長澤 孝太郎
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-093841
公開番号（公開出願番号）：特開平7-098504
出願日： 1994年04月08日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：

【要約】【構成】アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物及び式(1)【化1】で表される化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。【効果】本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、放射線に対する感度が極めて高く、得られたレジストパターン形状も優れているため半導体集積回路の製造に極めて有用である。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、1,2-キノンジアジド化合物及び式(1)【化1】で表される化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027