特許

J-GLOBAL ID：200903014505699927

アルコキシシランの製造方法

発明者： 淡路 弘 ,  大内 克哉 ,  広瀬 俊文
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 熊田 和生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-098408
公開番号（公開出願番号）：特開平6-287196
出願日： 1993年04月02日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：

【要約】【目的】 この出願の発明は、副反応を抑制しながら、高純度のアルコキシシランを高収率で製造することを目的とする。【構成】 一般式R1aSi(OR2)4-a(式中、R1、は1価の置換または道置換炭化水素基、R2は置換または未置換アルキル基、aは0、1、2または3を表す)で示されるアルコキシシランと、ポリシロキサンとを、アルミニウムアルコキシド触媒の存在下に反応させることを特徴とする一般式R3bSiHc(OR2)4-(b+c)(式中、R2は上記と同じ、R3は1価の置換または未置換炭化水素基、bは1、2または3、cは0、1または2を表す。)で示されるアルコキシシランの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式R1aSi(OR2)4-a(式中、R1は1価の置換または未置換炭化水素基、R2は置換または未置換アルキル基、aは0、1、2または3を表す)で示されるアルコキシシランと、ポリシロキサンとを、アルミニウムアルコキシド触媒の存在下に反応させることを特徴とする一般式R3bSiHc(OR2)4-(b+c)(式中、R2は上記と同じ、R3は1価の置換または未置換炭化水素基、bは1、2または3、cは0、1または2を表す。)で示されるアルコキシシランの製造方法。

IPC (2件)：

C07F 7/08 ,  C08G 77/38 NUF