高分子物質の分子量分布の均質化方法及びその装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-257489
公開番号（公開出願番号）：特開2000-072795
出願日： 1998年08月26日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】高速噴射による高分子水溶液の分子量分布の均質化方法の利点を生かしてのさらなる実用化の方法と、装置一台でより効率良く確実に高分子水溶液の分子量分布の均質化処理ができるような装置を提供すること。【解決手段】高分子水溶液を加圧してノズルから高速噴射する高分子物質の分子量分布の均質化方法であって、噴射されて回収した処理液を装置外に取り出す採取工程と、前記処理液を加圧手段に循環させて連続的に噴射させる循環工程を選択して制御する。

請求項（抜粋）：

高分子水溶液を加圧してノズルから高速噴射する高分子物質の分子量分布の均質化方法であって、噴射されて回収した処理液を装置外に取り出す採取工程と、前記処理液を加圧手段に循環させて連続的に複数回噴射させる循環工程とを選択して制御することを特徴とする高分子物質の分子量分布の均質化方法。

IPC (4件)：

C07K 1/02 , C07B 61/00 , C07K 1/12 , C07K 14/78

FI (4件)：

C07K 1/02 , C07B 61/00 C , C07K 1/12 , C07K 14/78

Fターム (6件)：

4H006AA02 , 4H006AC90 , 4H045AA20 , 4H045AA40 , 4H045BA05 , 4H045EA65

引用特許：

審査官引用 (1件)

高速噴射による高分子物質の分子量分布の均質化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-329097 出願人：株式会社スギノマシン

引用文献：

審査官引用 (5件)

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