特許

J-GLOBAL ID：200903014507736269

フェノール重合体の製造方法

発明者： 寺原 淳 ,  東村 秀之
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-190657
公開番号（公開出願番号）：特開平8-053545
出願日： 1994年08月12日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】触媒として高価な酵素を必要としない、安価なフェノール重合体の製造方法を提供する。【構成】触媒として遷移金属錯体の存在下に、酸化剤としてパーオキサイドを用いて、一般式【化1】(ただし、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、炭化水素基もしくは置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、アミノ基、置換アミノ基または水酸基のいずれかであり、R1 、R3 、R5 のうち少なくとも2つは水素である。)で表わされるフェノール類を酸化することを特徴とするフェノール重合体の製造方法。

請求項（抜粋）：

触媒として遷移金属錯体の存在下に、酸化剤としてパーオキサイドを用いて、一般式【化1】(ただし、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、炭化水素基もしくは置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、アミノ基、置換アミノ基または水酸基のいずれかであり、R1 、R3 、R5 のうち少なくとも2つは水素である。)で表わされるフェノール類を酸化することを特徴とするフェノール重合体の製造方法。

IPC (2件)：

C08G 65/44 NQZ ,  C08G 61/02 NLF

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭42-003195
  
• 特開昭49-026264