特許
J-GLOBAL ID：200903014532592050
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-209991
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036496
出願日： 1991年07月26日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 投入電力が小さくとも、高密度のプラズマを発生させることを可能とする。【構成】 真空容器10内のホルダ18に半導体ウエハWを載置し、該真空容器10内を真空排気装置14により真空排気すると共に、ガス供給口12から反応性ガスを導入し、該真空容器10内を所定の減圧状態にする。次いで、電子増倍作用を有する多数の直線状の貫通孔が形成された多孔板16の上下両面に付設されている表面電極22A、22B間に所定の交流電圧を印加する。多孔板16の貫通孔内では、電子増倍作用により容易にプラズマを発生させることができる。その結果、小さい投入電力でも、半導体ウエハWを高精度にエッチングすることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生手段として、電子増倍機能を有する多数の直線状貫通孔が形成された多孔板を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (2件)：
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