特許
J-GLOBAL ID:200903014535998732

有機EL素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石井 陽一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-018904
公開番号(公開出願番号):特開2000-223274
出願日: 1999年01月27日
公開日(公表日): 2000年08月11日
要約:
【要約】【課題】 耐久性、耐熱性を有し、長寿命で、効率が改善され、動作電圧が低く、低コストでしかもリーク電流の発生を効果的に抑制することのできる有機EL素子を実現する。【解決手段】ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた1種以上の有機層とを有し、前記ホール注入電極と前記有機層との間には第1の無機絶縁性ホール注入層と、第2の無機絶縁性ホール注入層とを有し、前記第1および第2の無機絶縁性ホール注入層は、シリコンおよび/またはゲルマニウムの酸化物を主成分とし、主成分の平均組成を、(Si<SB>1-x</SB>Ge<SB>x</SB>)O<SB>y</SB>と表したとき前記第1の無機絶縁性ホール注入輸送層は、0≦x≦10<y<1.7前記第2の無機絶縁性ホール注入輸送層は、0≦x≦11.7≦y≦1.99である有機EL素子とした。
請求項(抜粋):
ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた1種以上の有機層とを有し、前記ホール注入電極と前記有機層との間には第1の無機絶縁性ホール注入層と、第2の無機絶縁性ホール注入層とを有し、前記第1および第2の無機絶縁性ホール注入層は、シリコンおよび/またはゲルマニウムの酸化物を主成分とし、主成分の平均組成を、(Si<SB>1-x</SB>Ge<SB>x</SB>)O<SB>y</SB>と表したとき前記第1の無機絶縁性ホール注入輸送層は、0≦x≦10<y<1.7前記第2の無機絶縁性ホール注入輸送層は、0≦x≦11.7≦y≦1.99である有機EL素子。
IPC (2件):
H05B 33/22 ,  H05B 33/14
FI (2件):
H05B 33/22 C ,  H05B 33/14 A
Fターム (12件):
3K007AB03 ,  3K007AB06 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA02 ,  3K007EB00 ,  3K007EC03 ,  3K007FA01

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