特許
J-GLOBAL ID：200903014542053263
光計測評価方法及び光計測評価装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
平木 祐輔
, 関谷 三男
, 渡辺 敏章
, 今村 健一
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005020410
公開番号（公開出願番号）：WO2006-051766
出願日： 2005年11月08日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
高感度の光学異方性の評価技術を提供する。 光計測評価装置Aは、光パルスを発生する光パルス発生器1とハーフミラー3と第1のミラー5と第2のミラー7と第3のミラー9とリトロリフレクター11と波長板15と、ンズ17と分光器21と制御装置(PC)23とを有する。光パルス発生器1から出射した光パルスL1は、ハーフミラー3において2つのパルス光L2とL3とに分離される。パルス光L2は、ミラー5及びミラー7により反射され(パルス光L4、L5)、光パルスの偏光を回転ステージ15aに設置した半波長位相板15により回転し、レンズ17により試料Sの表面上に焦点が合わされる(L8)。光パルスL3は、非同軸で入射光と平行な光を返すリトロリフレクター11により反射され(L6)、ミラー9によって反射され、光パルスの偏光を回転ステージ15aに設置した半波長位相板15により回転され、レンズ17により上記L8と異なる光路L7により試料S上の同様の位置に焦点が合わされる。この際、2つの光パルスの略平行にそろえられた直線偏光を同時に回転して試料Sに照射する。光パルスL8に波数k1を光パルスL7に波数k2をもたせることで四光波混合現象が起こる。等方的な薄膜に一軸歪等による非等方性の変化が存在すると、回折光(2k2-k1)の強度に大きな異方性が現れる。
請求項（抜粋）：
第1光パルスと該第1光パルスと異なる波数ベクトルを有する第2光パルスとの偏光方向が略平行にそろえられた直線偏光を測定対象の任意の結晶軸に対して回転する偏光回転手段と、
該偏光回転手段により偏光が回転された前記第1及び第2光パルスを前記結晶に照射することにより得られる四光波混合による回折光を分光する分光手段と
を有する光計測評価装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2G059AA02
, 2G059AA05
, 2G059BB08
, 2G059BB10
, 2G059CC20
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE12
, 2G059GG01
, 2G059GG08
, 2G059JJ01
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059KK01
