特許

J-GLOBAL ID：200903014547226530

ヒドロキシアルキルアルキルセルロースエーテル皮膜形成方法

発明者： 早川 和久
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-176325
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002974
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、種子、農薬、洗剤、衣類、食品類等を被覆する水溶性セルロースエーテルの皮膜の形成方法であって、液だれを生じることなく、均一な皮膜を効率よく形成できるヒドロキシアルキルアルキルセルロースエーテルの皮膜形成方法を提供すること。【解決手段】 水への溶解温度が45°C〜65°Cであるヒドロキシアルキルアルキルセルロースエーテルを、その溶解温度より5〜50°C高い温度の熱水中に分散させてスラリーとし、このスラリーを基質上に塗布して、当該溶解温度より5°C〜20°C低い温度で塗布部分を冷却した後、乾燥することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

水への溶解温度が45°C〜65°Cであるヒドロキシアルキルアルキルセルロースエーテルを、その溶解温度より5〜50°C高い温度の熱水中に分散させてスラリーとし、このスラリーを基質上に塗布して、当該溶解温度より5°C〜20°C低い温度で塗布部分を冷却した後、乾燥することを特徴とするヒドロキシアルキルアルキルセルロースエーテルの皮膜形成方法。

IPC (3件)：

C09D101/08 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08L 1/28

FI (3件)：

C09D101/08 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08L 1/28

Fターム (17件)：

4F071AA09 ,  4F071AG29 ,  4F071AG31 ,  4F071AG33 ,  4F071AG36 ,  4F071AH01 ,  4F071AH04 ,  4F071AH12 ,  4F071BA03 ,  4F071BB02 ,  4F071BC02 ,  4J002AB03W ,  4J002AB03X ,  4J002DE026 ,  4J002GH02 ,  4J038BA101 ,  4J038GA03