特許
J-GLOBAL ID：200903014549038650
パターン検出光学装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-123241
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326371
出願日： 1992年05月15日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【構成】パターン検出波形を歪ませるウェハ上の感光剤の膜厚バラツキが、ウェハ中心に対して概ね対称に発生することから、ウェハ中心についてほぼ対称な位置にある複数のパターンを検出して波形同士を比較し、感光剤の膜厚バラツキが原因で発生するパターン中心の誤認識量を求め、これまでの検出結果に対する補正量として、フィードバックした。【効果】ウェハ表面の感光剤の膜厚バラツキから検出波形が歪んでいても、波形の歪みによるパターン中心の誤認識量を判定し、補正することにより、高精度な位置決め精度を得る。
請求項（抜粋）：
試料の表面を照明し、上記試料の表面に設けられているパターンからの反射光を検出することによって、上記試料の位置検出を行なうパターン検出光学装置において、上記パターンに塗布された感光剤や光学的薄膜となるプロセス層の膜厚バラツキにより生じる上記検出信号の歪みの影響で誤認識されたパターンの位置情報に対し、位置情報の誤認識量を判定する手段を設け、検出信号の歪みによる影響を回避可能としたことを特徴とするパターン検出光学装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01B 11/24
, H01L 21/68
, H01L 21/78
