特許
J-GLOBAL ID：200903014551457253

光触媒機能を有する金属修飾アパタイト膜の形成方法および金属修飾アパタイト被膜材

発明者：
若村 正人

若村 正人 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-378767
公開番号（公開出願番号）：特開2003-175338
出願日： 2001年12月12日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
要約：
【要約】【課題】 光触媒機能を効率良く発揮することのできる金属修飾アパタイト膜を形成する方法、および、金属修飾アパタイト膜を提供すること。【解決手段】 アパタイト結晶構造に含まれる金属原子の一部が光触媒性金属原子であることによって形成されている光触媒性部分構造、を含む金属修飾アパタイト膜を形成するための方法において、金属修飾アパタイト膜を構成するための原料を含む原料溶液を基材に対して供給する原料供給工程11と、基材に供給された原料溶液において金属修飾アパタイト膜の成長反応を進行させる成長工程12と、基材を乾燥するための乾燥工程13とを含むこととした。
請求項（抜粋）：
アパタイト結晶構造に含まれる金属原子の一部が光触媒性金属原子であることによって形成されている光触媒性部分構造、を含む金属修飾アパタイト膜を形成するための方法であって、前記金属修飾アパタイト膜を構成するための原料を含む原料溶液を、基材に対して供給する原料供給工程と、前記基材に供給された前記原料溶液において、前記金属修飾アパタイト膜の成長反応を進行させる成長工程と、前記基材を乾燥するための乾燥工程と、を含むことを特徴とする、金属修飾アパタイト膜の形成方法。
IPC (3件)：
B01J 27/18 ,  B01J 35/02 ,  C01B 25/32
FI (3件)：
B01J 27/18 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 25/32 P
Fターム (12件)：
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA48A ,  4G069BB14A ,  4G069BB14B ,  4G069BC09A ,  4G069BC09B ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069CA17 ,  4G069EA07 ,  4G069FB24
引用特許：
審査官引用 (2件)

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