特許
J-GLOBAL ID:200903014553595386

基板、その製造方法およびパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-016237
公開番号(公開出願番号):特開平11-207959
出願日: 1998年01月28日
公開日(公表日): 1999年08月03日
要約:
【要約】【課題】 パターン形成時に、乾燥前の流動体が広がりすぎず乾燥後にパターンが分断されない、インクジェット方式によるパターン形成に適する基板の提供。【解決手段】 所定の流動体12に対し親和性のある親和性領域10と、流動体12に対し親和性のない非親和性領域11と、を備え、親和性領域10が非親和性領域11のなかで、所定のパターン(形状、大きさおよび配列)で配置されることにより、複数の前記親和性領域にまたがる一定の面積に流動体12を連続して付着可能に構成された基板1である。
請求項(抜粋):
所定の流動体に対し親和性のある親和性領域と、前記流動体に対し親和性のない非親和性領域と、を備え、前記親和性領域が前記非親和性領域のなかで、所定のパターンで配置されることにより、複数の前記親和性領域にまたがる一定の面積に前記流動体を連続して付着可能に構成された基板。
IPC (6件):
B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  H01L 21/30 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/10 ,  H01L 21/02
FI (6件):
B41J 3/04 103 A ,  H01L 21/30 ,  H05K 3/06 A ,  H05K 3/10 C ,  H05K 3/10 D ,  H01L 21/02 Z
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開昭64-005095
  • 特開昭59-075205
審査官引用 (2件)
  • 特開昭64-005095
  • 特開昭59-075205

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