特許

J-GLOBAL ID：200903014555893007

基板処理装置の薬液供給装置

発明者： 前川 直嗣 ,  杉本 賢司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090199
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260332
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：

【要約】【課題】 簡易かつ清浄な構成でありながら正確に一定量の薬液を供給することができる基板処理装置の薬液供給装置を提供することを目的とする。【解決手段】 薬液供給装置は、基板を処理するための処理液を貯留した処理槽2と、処理槽2に供給すべき薬液を貯留する薬液タンク3と、薬液タンク3から処理槽2に至る配管4と、この配管4中に配設された開閉弁5と、この開閉弁5の下流側に配設された抵抗部6と、薬液タンク3内の薬液を窒素ガスにより一定の圧力で加圧する加圧手段7とを備える。抵抗部6の圧力損失は、配管4のいずれの部分の圧力損失よりも極めて大きく設定されている。薬液タンク3から処理槽2に薬液を供給する場合、開閉弁5を開放すると、加圧手段7により加圧されている薬液が抵抗部6を通過して、処理槽2まで圧送される。このときの薬液の流量は、抵抗部6の圧力損失により決定される。

請求項（抜粋）：

基板を処理する処理槽と、薬液を貯留する薬液タンクと、前記薬液タンクから前記処理槽に至る薬液供給路と、前記薬液供給路中に配設された開閉弁と、前記薬液タンク内の薬液を一定の圧力で加圧する加圧手段とを備え、前記薬液タンク内の薬液を前記薬液供給路を介して前記処理槽に圧送するようにした基板処理装置の薬液供給装置において、一定量の薬液を通過させるため、前記薬液供給路のいずれの部分よりも圧力損失が大きい抵抗部を、前記薬液供給路中に配設したことを特徴とする基板処理装置の薬液供給装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/304 341 S ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 A