特許
J-GLOBAL ID：200903014557985308
位相シフトマスクおよびそれに用いるブランクならびにそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-045173
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258817
出願日： 1993年03月05日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】酸化珪素膜を位相シフト層として有する位相シフトマスクを使用する際に、i線並びにKrFエキシマレーザを光源とする露光装置用として、信頼性が高く、且つKrFエキシマレーザの場合に露光エネルギーを有効に利用することが可能であること、以上を満たす位相シフトマスクおよびそれに用いるブランクならびにそれらの製造方法を提供する。【構成】透明基板1と、シリコンの酸化物からなる位相シフト層3とを少なくとも備えた位相シフトマスクにおいて、該位相シフト層3が、該位相シフト層3の形成後に、減圧下で、より好ましくは減圧下で且つ不活性ガス雰囲気下で、加熱処理されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板と、シリコンの酸化物からなる位相シフト層とを少なくとも備えた位相シフトマスクにおいて、該位相シフト層が、該位相シフト層の形成後に減圧下で加熱処理されていることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
