特許

J-GLOBAL ID：200903014562013551

回転式基板洗浄装置

発明者： 西村 讓一 ,  佐々木 忠司 ,  大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-059837
公開番号（公開出願番号）：特開平8-141518
出願日： 1995年02月22日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【目的】 簡単な構成で、基板の反り変形に洗浄具を追随しやすいようにして、基板表面全面を均一に洗浄できるようにする。【構成】 支持アーム7の先端側部分7aに回転可能に設けた回転体10に、洗浄ブラシ8を一体的に取り付けた洗浄具支持体13を昇降可能に設け、第2のベローズ15で形成される密閉空間Sにエアー配管18を接続するとともに、そのエアー配管18に圧力計19とレギュレータ20とを介装し、基板Wに対する洗浄具8の押圧力の変化に応じてレギュレータ20を働かせ、洗浄具支持体13を基板Wに対して昇降し、基板Wに対する洗浄具8の押圧力を設定範囲内に維持する。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面を洗浄する洗浄具と、前記洗浄具を鉛直方向の軸芯周りで回転させる洗浄具回転手段と、前記洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄具移動手段と、基板表面の前記洗浄具による洗浄箇所に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、前記洗浄具を前記洗浄具移動手段に押圧手段を介して昇降可能に設けたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-257209   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-052228