特許
J-GLOBAL ID：200903014576738605
低誘電率材料、層間絶縁膜及びIC基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-177261
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026444
出願日： 1997年07月02日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】 LSI用層間絶縁膜、IC基板などに利用される、比誘電率が3.0未満の低誘電率材料を提供する。【解決手段】 -O-M-(MはB、Al、Si、Ti、Ge、Y、Zr、Nb、Taの中から選ばれた少なくとも1種類以上の元素)をユニットとする主鎖を有する高分子材料において、主たる末端の化学構造を、-O-MR1 R2 ...Rn-1 (R1 、R2 、...、Rn-1 は末端基で、nは元素Mの原子価)とし、そのMR1 ...Rn-1 部分の全結合原子対を電気陰性度の差0.7以下とする。
請求項（抜粋）：
-O-M-(MはB、Al、Si、Ti、Ge、Y、Zr、Nb、Taの中から選ばれた少なくとも1種類の元素)をユニットとする主鎖を有する高分子材料において、主たる末端の化学構造が、-O-MR1 R2 ...Rn-1 (R1 、R2 、...、Rn-1 は末端基で、nは元素Mの原子価)であり、MR1...Rn-1 部分の全結合原子対が電気陰性度の差0.7以下であることを特徴とする低誘電率材料。
IPC (5件)：
H01L 21/312
, C08G 77/16
, H01B 3/10
, H01L 21/768
, H05K 1/03 610
H01L 21/312 C
, C08G 77/16
, H01B 3/10
, H05K 1/03 610 G
, H01L 21/90 S
