特許
J-GLOBAL ID：200903014580051410
露光装置及びそれを用いた半導体チツプの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202398
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029196
出願日： 1991年07月17日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 レチクル面のパターンをウエハ面に投影レンズ系で投影露光する際、露光光と異なった波長の光で投影レンズ系を介してレチクルとウエハとの位置合わせを高精度に行なった露光装置及びそれを用いた半導体チップの製造方法を得ること。【構成】 露光光で第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影レンズ系と、該露光光とは波長が異なる検出光で第2物体を照明し、該第2物体からの該検出光を該投影レンズ系を介して受けて該第2物体上のマークの像を検出する検出手段を有する装置において、前記投影レンズ系は前記露光光に対して収差補正が成されていると共に前記検出光に対して所定の非点収差と所定のコマ収差を発生するよう構成されており、前記検出手段が前記投影レンズで発生する前記非点収差と前記コマ収差を補正するよう前記投影レンズ系のメリジオナル断面に関して傾けた一枚の平行平面板を備えること。
請求項（抜粋）：
露光光で第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影レンズ系と、該露光光とは波長が異なる検出光で第2物体を照明し、該第2物体からの該検出光を該投影レンズ系を介して受けて該第2物体上のマークの像を検出する検出手段を有する装置において、前記投影レンズ系は前記露光光に対して収差補正が成されていると共に前記検出光に対して所定の非点収差と所定のコマ収差を発生するよう構成されており、前記検出手段が前記投影レンズで発生する前記非点収差と前記コマ収差を補正するよう前記投影レンズ系のメリジオナル断面に関して傾けた一枚の平行平面板を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
