特許

J-GLOBAL ID：200903014585201762

排ガスの処理方法および処理装置

発明者： 山本 泰史 ,  大桐 哲雄 ,  道端 秀治 ,  佐藤 宏一郎
出願人/特許権者： 秩父小野田株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-327228
公開番号（公開出願番号）：特開平10-165765
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】 排ガス中に含まれる有害物質、例えばダイオキシン等を低コストで、且つ有効に除去することができる排ガスの処理方法および処理装置の提供。【解決手段】 活性炭3の流動床を備えた密閉室2内に排ガスを導入し、活性炭3と排ガスとを接触させた後、排ガスを、排ガス透過性且つ活性炭不透過性の濾過手段4に通過させて該密閉室2の外部に放出する処理方法。処理装置1は活性炭3の流動床を備えた密閉室2と、密閉室2内に排ガスを導入する手段5と、密閉室2内に設けられた、排ガス透過性且つ活性炭不透過性の濾過手段4と、濾過手段4を通過した排ガス4を該密閉室の外部に放出する手段22と、を備える。

請求項（抜粋）：

活性炭の流動床を備えた密閉室内に排ガスを導入し、該活性炭と該排ガスとを接触させた後、該排ガスを、排ガス透過性且つ活性炭不透過性の濾過手段に通過させて該密閉室の外部に放出することを特徴とする排ガスの処理方法。

IPC (6件)：

B01D 53/70 ,  B01D 46/02 ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  B01J 20/20

FI (5件)：

B01D 53/34 134 E ,  B01D 46/02 Z ,  B01D 53/12 ,  B01J 20/20 B ,  B01D 53/34 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭53-048085
  
• 特開昭55-005734
  
• 特開昭53-048085
  
• 特開昭55-005734