ニーム抽出物の製造方法及びこれを含有する低刺激性化粧料組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-261740
公開番号（公開出願番号）：特開2006-076909
出願日： 2004年09月09日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：

【課題】ニーム自体の有効性を損なうことなく皮膚感作性や光感作性の無い安全で皮膚刺激性の低いニーム抽出物を得る方法、また得られたニーム抽出物を含有する美容効果に優れた低刺激性化粧料組成物を提供すること。【解決手段】ニームの水蒸気蒸留残渣より溶媒抽出することにより安全で皮膚刺激性の低いニーム抽出物を得る方法を見出し、またこれを含有する低刺激性化粧料組成物。【効果】皮膚感作性や光感作性といった皮膚刺激をもたない安全性の高いニーム抽出物を得ることができ、しかも従来の製法にて得られるニーム抽出物の有するメラニン生成抑制作用、ヒスタミン遊離抑制作用といった有効性を損なうこともない。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

センダン科のニーム(Melia azadirachta L.)の水蒸気蒸留残渣より溶媒抽出して得ることを特徴とするニーム抽出物の製造方法。

IPC (9件)：

A61K 8/00 , A61Q 19/00 , A61K 8/96 , A61Q 1/08 , A61Q 5/00 , A61Q 5/12 , A61Q 5/06 , A61Q 17/04 , A61Q 19/10

FI (8件)：

A61K7/48 , A61K7/00 K , A61K7/031 , A61K7/06 , A61K7/08 , A61K7/11 , A61K7/42 , A61K7/50

Fターム (74件)：

4C083AA032 , 4C083AA072 , 4C083AA082 , 4C083AA111 , 4C083AA112 , 4C083AA122 , 4C083AB032 , 4C083AB212 , 4C083AB232 , 4C083AB242 , 4C083AB272 , 4C083AB312 , 4C083AB352 , 4C083AB442 , 4C083AC022 , 4C083AC072 , 4C083AC082 , 4C083AC092 , 4C083AC102 , 4C083AC122 , 4C083AC132 , 4C083AC182 , 4C083AC212 , 4C083AC242 , 4C083AC312 , 4C083AC342 , 4C083AC352 , 4C083AC422 , 4C083AC442 , 4C083AC472 , 4C083AC482 , 4C083AC532 , 4C083AC542 , 4C083AC582 , 4C083AC642 , 4C083AC692 , 4C083AC782 , 4C083AC792 , 4C083AD022 , 4C083AD042 , 4C083AD092 , 4C083AD112 , 4C083AD192 , 4C083AD212 , 4C083AD272 , 4C083AD322 , 4C083AD412 , 4C083AD442 , 4C083AD452 , 4C083AD512 , 4C083AD532 , 4C083AD632 , 4C083AD642 , 4C083AD662 , 4C083BB41 , 4C083BB44 , 4C083BB47 , 4C083BB48 , 4C083CC01 , 4C083CC02 , 4C083CC04 , 4C083CC05 , 4C083CC07 , 4C083CC12 , 4C083CC19 , 4C083CC23 , 4C083CC25 , 4C083CC32 , 4C083CC37 , 4C083CC39 , 4C083DD31 , 4C083DD33 , 4C083EE10 , 4C083EE12

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開昭60-54312
抗酸化剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-273399 出願人：御木本製薬株式会社
抗炎症・抗かゆみ剤組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-354500 出願人：サンスター株式会社

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