特許
J-GLOBAL ID：200903014602155516
X線マスクの製造方法及びそれを用いたX線マスクの製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345164
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183202
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 X線透過膜の熱吸収による熱歪を無くし、高精度なパターン形成が可能なX線マスクの製造方法及びその製造装置を得ること。【構成】 基板の表面に薄膜を設けた後、該基板の裏面の所定領域の基板部をバックエッチングにより除去して枠体を形成し、次いで該薄膜に熱が加わる工程を介してX線用マスクを製造する際、該熱が加える工程の際、該薄膜のうちバックエッチングにより基板部を除去した領域の一部に温度調節可能な固体ブロックを接触させていること。
請求項（抜粋）：
基板の表面に薄膜を設けた後、該基板の裏面の所定領域の基板部をバックエッチングにより除去して枠体を形成し、次いで該薄膜に熱が加わる工程を介してX線用マスクを製造する際、該熱が加える工程の際、該薄膜のうちバックエッチングにより基板部を除去した領域の一部に温度調節可能な固体ブロックを接触させていることを特徴とするX線マスクの製造方法。
IPC (2件)：
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