特許
J-GLOBAL ID：200903014604093780
光導波路形成材料および光導波路
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-308868
公開番号（公開出願番号）：特開平10-148727
出願日： 1996年11月20日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 ?@ 透過できる光の波長領域が広く、光伝送損失が小さい光導波路を容易に形成することのできる光導波路形成材料の提供。?A 光導波路を構成する高屈折率層および低屈折率層の屈折率を確実かつ容易に制御することのできる光導波路形成材料の提供。?B 透過できる光の波長領域が広く、光伝送損失が小さい光導波路の提供。?C 高屈折率層および低屈折率層の屈折率が確実に制御されている光導波路の提供。【解決手段】 本発明の光導波路形成材料は、ノルボルナジエン構造を有する重合体からなる。本発明の光導波路は、前記光導波路形成材料よりなる薄膜の一部に光を照射して低屈折率層を形成することにより得られる。本発明の光導波路は、ノルボルナジエン含有重合体からなる高屈折率層が、クワドリシクラン構造を有する重合体からなる低屈折率層に挟まれてなる。
請求項（抜粋）：
ノルボルナジエン構造を有する重合体からなることを特徴とする光導波路形成材料。
引用特許：
引用文献：
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