特許
J-GLOBAL ID:200903014620932422

触媒再生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川原田 一穂
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-528084
公開番号(公開出願番号):特表平11-502150
出願日: 1996年03月18日
公開日(公表日): 1999年02月23日
要約:
【要約】炭質及び/又は硫黄含有物質で汚染された使用済触媒粒子の再生方法であって、該方法は、a)前記粒子を流動床で酸素含有ガスと高温で接触させ、それによって汚染物の少なくとも一部を除去するステップと、b)このように処理した触媒粒子を移動ベルトに送り、該ベルトの移動によって、触媒粒子から汚染物の残部を除去するのに十分な温度に維持した炉ゾーンに前記触媒粒子を通すステップとからなる。
請求項(抜粋):
炭質及び/又は硫黄含有物質で汚染された使用済触媒粒子の再生方法であって、a)前記粒子を流動床で酸素含有ガスと高温で接触させ、それによって汚染物の少なくとも一部を除去するステップと、b)このように処理した触媒粒子を移動ベルトに送り、該ベルトの移動によって、触媒粒子から汚染物の残部を除去するのに十分な温度に維持した炉ゾーンに前記触媒粒子を通すステップとからなる前記炭質及び/又は硫黄含有物質で汚染された使用済触媒粒子の再生方法。
IPC (3件):
B01J 38/10 ,  B01J 23/94 ,  B01J 38/02
FI (3件):
B01J 38/10 C ,  B01J 23/94 M ,  B01J 38/02

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