特許

J-GLOBAL ID：200903014625777638

レジストパターンの製作方法およびこれを用いた液体噴射記録ヘッドの製造方法

発明者： 横田 雅実
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-117930
公開番号（公開出願番号）：特開平8-292577
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【目的】 三次元的形状精度の高いレジストパターンを製作する。【構成】 基板1にレジスト膜2を設け、フォトマスク3を重ねて露光する。(c)に示すように真空室10内でプラズマによるアッシング処理を行ない、レジスト膜2の膜厚を所定の値tに低減したうえで、現像によってレジスト膜2の露光部分2aを除去してパターン開口4aを有するレジストパターン4を得る。

請求項（抜粋）：

基板に被着されたレジスト膜の膜厚を所定の値に低減する工程と、膜厚を低減したレジスト膜にパターン開口を設ける工程を有するレジストパターンの製作方法。

IPC (3件)：

G03F 7/26 ,  B41J 2/16 ,  B41J 2/05

FI (3件)：

G03F 7/26 ,  B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 B