特許
J-GLOBAL ID:200903014626293812
炭素被覆、炭素被覆を施す方法および装置、およびその様な被覆を施した物品
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-339168
公開番号(公開出願番号):特開2002-161352
出願日: 2000年11月07日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】耐磨耗性を有する炭素-炭素結合が大部分グラファイト状sp2形態である新規炭素被覆方法を提供する。【解決手段】少なくとも1個以上の炭素ターゲットを使用し、被覆する基材に印加するイオン電流密度を0.5mA/cm2を超える電流密度でスパッターイオンプレーティングすることにより、湿潤条件下で10-16m3/Nm未満の国有磨耗率を有する炭素含有被覆を製造する。物品22の上にクロム層24を堆積させて、被覆と物品の密着性をよくし、その上に炭化クロム層26がある。最外層にグラファイト状の層28Cr×Cyが被覆されている。
請求項(抜粋):
被覆中の炭素-炭素結合が大部分グラファイト状sp2形態であり、かつ、該被覆が、湿潤条件下で10-16m3/Nm未満の固有摩耗率を有する、炭素含有被覆を施した物品。
IPC (3件):
C23C 14/06
, C23C 14/34
, C23C 14/35
FI (5件):
C23C 14/06 F
, C23C 14/06 N
, C23C 14/34 R
, C23C 14/34 C
, C23C 14/35 C
Fターム (11件):
4K029BA07
, 4K029BA34
, 4K029BA55
, 4K029BB02
, 4K029BC02
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC05
, 4K029DC16
, 4K029DC39
, 4K029JA02
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