特許
J-GLOBAL ID：200903014628059647
半導体ウエハ製作プロセスのリアルタイム・インシチュ監視方法およびシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338981
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283894
出願日： 1998年11月30日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 半導体ウエハ製作中に処理ツールにおいて実行されるステップのリアルタイム・インシチュ監視を行う方法およびシステム。【解決手段】 正常な動作条件を最もよく表すものとして適切なプロセス・パラメータを選択する。正常動作条件と、プロセス技術者によって特定されたそのあらゆる既知の逸脱とにおける前記選択されたプロセス・パラメータの変動をコード化し、データベースに記憶する。前記特定された逸脱を認識する不合格基準を含む分析規則が定義され、アルゴリズムの形にコード化され、同様にデータベースに記憶される。最後に、特定された各逸脱についてアラート・コードととるべき適切な処置も設定され、コード化されてデータベースに入れられる。ウエハ処理中、監視。信号がスーパーバイザによってコード化され、分析され、データベースに記憶されている対応するデータとリアルタイムで比較される。
請求項（抜粋）：
ウエハのバッチに属する半導体ウエハを製作するプロセスの所定のステップのリアルタイム・インシチュ監視方法であって、a)前記所定のステップの監視にとって決定的な少なくとも1つのプロセス・パラメータを選択する予備ステップと、b)データベースを設定する予備ステップとを含み、前記データベースは、正常な動作条件とプロセス技術者によって特定されたそのすべての逸脱とにおける前記選択されたプロセス・パラメータの変動と、プロセス技術者によって定義され、各逸脱の不合格基準を含むあらゆる前記逸脱を認識するように適合化された分析規則を表すアルゴリズムと、逸脱の各場合のアラート・コードとを含み、前記方法は前記所定のステップについて、c)前記製作プロセスの前記所定のステップにおいて前記ウエハを処理する少なくとも1つのチャンバを有するツールと、前記ツールの物理プロセス・パラメータを制御するツール・コンピュータと、前記ステップにとって決定的な少なくとも1つの選択されたプロセス・パラメータを監視する少なくとも1つの監視装置と、ネットワークを介して前記コンピュータと前記監視装置と前記測定装置と前記データベースとに接続され、前記所定のステップのプロセス・フローを監視するスーパーバイザとを設けるステップと、d)前記ツール・チャンバに前記ウエハを搬入するステップと、e)ウエハ処理を開始するステップと、f)前記スーパーバイザによって前記選択されたプロセス・パラメータを絶えず分析し、前記データベースに記憶されている前記対応するデータと比較して前記所定のステップ中に発生する可能性のあるあらゆる逸脱をリアルタイム・インシチュで検出するステップと、g)逸脱が検出されなかった場合は、正常終了までウエハ処理を続け、そうでない場合は、検出された逸脱に対応するアラート・コードで定義される是正措置を講じるステップとを含む方法。
IPC (2件)：
H01L 21/02
, H01L 21/3065
H01L 21/02 Z
, H01L 21/302 B
