特許
J-GLOBAL ID:200903014631123186
マスク
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
羽鳥 修
, 松嶋 善之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-184143
公開番号(公開出願番号):特開2007-000378
出願日: 2005年06月23日
公開日(公表日): 2007年01月11日
要約:
【課題】 花粉を始めとする各種微小粒子の吸い込みや、メガネのレンズの曇りを防止し得るマスクを提供すること。【解決手段】 マスク10は、マスク本体部20と、マスク本体部20の外面を覆う外側カバー30と、マスク本体20に着脱可能に取り付けられるフィルタ40とを備える。マスク本体20の左右両側部に耳掛け紐22が取り付けられている。外側カバー30に紐通し孔36が設けられており、紐通し孔36に耳掛け紐22を通すようになされている。耳掛け紐22は、その取り付け位置が変更可能なようにマスク本体部20に着脱可能になっている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
マスク本体部と、該マスク本体部の外面を覆う外側カバーと、該マスク本体に着脱可能に取り付けられるフィルタとを備え、該マスク本体の左右両側部に耳掛け紐が取り付けられているマスク。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
2E185AA07
, 2E185BA02
, 2E185BA04
, 2E185BA08
, 2E185CA03
, 2E185CB07
, 2E185CB16
, 2E185CC34
, 2E185CC36
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (3件)
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マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-273548
出願人:トーエイ株式会社
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多層式マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-256449
出願人:林淨植
-
マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-130432
出願人:佐合邦良
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