特許

J-GLOBAL ID：200903014646186915

洗浄方法

発明者： 山田 俊郎 ,  漆間 貴史 ,  後藤 博美
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 内田 幸男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-248582
公開番号（公開出願番号）：特開平10-071373
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】 被洗浄物をシリコーン系洗浄剤を主成分とする洗浄溶剤と接触させ、次いで、ハイドロフルオロカーボンを主成分とするリンス洗浄浴に浸漬してリンス洗浄することからなる洗浄方法において、被洗浄物をリンス洗浄浴に浸漬し、引上げる時にシリコーン系洗浄剤が再付着することを防止し、リンス洗浄効果を高める。【解決手段】 高純度ハイドロフルオロカーボンをリンス洗浄浴へ供給して、リンス洗浄浴が相分離を起こさないように均一に保持する。

請求項（抜粋）：

被洗浄物をシリコーン系洗浄剤を主成分とする洗浄溶剤と接触させ、次いでシリコーン系洗浄剤が付着した被洗浄物をハイドロフルオロカーボンを主成分とするリンス洗浄浴に浸漬してリンス洗浄することからなる洗浄方法において、高純度ハイドロフルオロカーボンをリンス洗浄浴へ供給して、リンス洗浄浴が相分離を起さないよう均一に保持することを特徴とする被洗浄物の洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/04 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50

FI (3件)：

B08B 3/04 B ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50