特許

J-GLOBAL ID：200903014648809740

電子ビーム照射方法と電子ビーム照射装置

発明者： 三浦 佳久 ,  安芸 祐一 ,  稲垣 敬夫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-402147
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203774
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】 電子ビームの散乱を効果的に回避し、しかも大掛かりな真空チェンバを設けることを回避することができるようにした電子ビーム照射装置を提供する。【解決手段】 電子ビームの被照射体の支持体4と、電子ビーム出射部を有する電子ビーム照射ヘッド部6とを有して成り、このヘッド部6には、その電子ビーム出射部すなわち電子ビーム出射孔5の周囲に、ヘッド部6を電子ビームの被照射体3に対し所要の微小間隙dをもって浮上させると共に、電子ビーム出射部と電子ビームの被照射体3との間の、電子ビーム通路部に限定的に真空空間を形成するための非接触真空シール部を構成する差動静圧浮上手段22が設けられた構成とする。このようにして、上述した真空空間外において、電子ビームの被照射体に気体を接触させて、この被照射体に帯電した電荷を消失ないしは減少させる構成とするものである。

請求項（抜粋）：

電子ビーム照射方法にあって、電子ビーム出射部と、電子ビームの被照射体との間において、上記電子ビームの通路部を限定的に真空空間とし、電子ビームの照射状態において、上記真空空間外で、上記電子ビームの被照射体に気体を接触させて、該被照射体に帯電した電荷を消失ないしは減少させるようにしたことを特徴とする電子ビーム照射方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  H01J 37/305

FI (6件)：

G03F 7/20 504 ,  G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 541 G

Fターム (16件)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097EA01 ,  2H097HA04 ,  2H097HB04 ,  2H097LA20 ,  5C034BB06 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38 ,  5F056AA03 ,  5F056CB05 ,  5F056CB32 ,  5F056DA23 ,  5F056EA12 ,  5F056EA14 ,  5F056EA16