特許

J-GLOBAL ID：200903014653697054

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 溝尾 嘉章 ,  小川 裕子
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-151977
公開番号（公開出願番号）：特開2001-331908
出願日： 2000年05月23日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】 薄膜磁気ヘッドの製造工程において、ラップ加工あるいは洗浄時に、ABS面上の磁性金属が腐食することを防止する。【解決手段】 磁気記録媒体に対するヘッド摺動面内に、酸化還元電位の異なる2層以上の磁性金属膜を有する薄膜磁気ヘッドを製造する方法において、ラップ加工を行う工程の前に、スライダ切断しろ23またはABS加工しろに、磁性金属膜の少なくとも一つと磁性金属膜よりイオン化傾向の大きい薄膜15とを用いて局部電池16を構成する。

請求項（抜粋）：

磁気記録媒体に対するヘッド摺動面内に、酸化還元電位の異なる2層以上の磁性金属膜を有する薄膜磁気ヘッドを製造する方法において、ラップ加工を行う工程の前に、スライダ切断しろに前記磁性金属膜の少なくとも一つと前記磁性金属膜よりイオン化傾向の大きい薄膜とを用いて局部電池を構成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (4件)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39

Fターム (11件)：

5D033BA11 ,  5D033BB14 ,  5D033BB43 ,  5D033CA06 ,  5D033DA01 ,  5D033DA02 ,  5D034BA19 ,  5D034BB05 ,  5D034BB08 ,  5D034BB12 ,  5D034DA07