特許

J-GLOBAL ID：200903014668557046

基板処理装置

発明者： 吉岡 勝司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-252308
公開番号（公開出願番号）：特開2000-082653
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】 基板の周縁部の塗布膜を除去する機能を有する処理ユニットに基板を正確に位置決めして搬入することができる基板処理装置を提供することである。【解決手段】 基板搬送装置30は非吸着式の搬送アーム31および真空吸着式の搬送アーム32を備え、クーリングプレートCP1は位置決め機構45を備える。基板搬送装置30の非吸着式の搬送アーム31によりホットプレートHPからクーリングプレートCP1に基板Wを搬送する。位置決め機構45により基板Wが位置決めされる。真空吸着式の搬送アーム32により基板WをクーリングプレートCP1から回転式塗布ユニットSCに搬送する。回転式塗布ユニットSCにおいて基板Wにレジスト液の塗布処理が行われた後、基板Wの周縁部のレジスト膜を除去するエッジリンス処理が行われる。非吸着式の搬送アーム31により基板Wを回転式塗布ユニットSCからホットプレートHPに搬送する。

請求項（抜粋）：

基板上に処理液を塗布して塗布膜を形成するとともに基板の周縁部の塗布膜を除去する第1の処理ユニットと、基板を位置決めする位置決め手段と、基板の水平位置を規制して基板を保持する第1の基板保持手段および基板を吸着保持する第2の基板保持手段を有する基板搬送手段とを備え、前記基板搬送手段は、前記位置決め手段で位置決めされた基板を前記第2の基板保持手段により前記第1の処理ユニットに基板を搬入し、前記第1の基板保持手段により前記第1の処理ユニットから基板を搬出することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 13/02

FI (5件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 13/02 ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/30 569 D

Fターム (14件)：

4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA51 ,  4F042AA06 ,  4F042CC10 ,  4F042EB05 ,  4F042EB25 ,  5F046JA04 ,  5F046JA15 ,  5F046JA22 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18