特許
J-GLOBAL ID:200903014673829453

リチウム二次電池用正極及びその製造方法並びにリチウム二次電池

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松川 克明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-372380
公開番号(公開出願番号):特開2002-175801
出願日: 2000年12月07日
公開日(公表日): 2002年06月21日
要約:
【要約】【課題】 正極にリチウムの吸蔵,放出が可能なスピネル構造になったリチウムマンガン酸化物を用いたリチウム二次電池において、その充放電時や充電状態で保存した場合に、リチウムマンガン酸化物からマンガンが溶出するのを抑制し、保存特性に優れたリチウム二次電池が得られるようにする。【解決手段】 正極1にリチウムの吸蔵,放出が可能なスピネル構造になったリチウムマンガン酸化物を用いたリチウム二次電池において、上記のリチウムマンガン酸化物の表面に酸化ホウ素とリチウムコバルト複合酸化物とを用いた被覆層を形成したもの、或いは上記のリチウムマンガン酸化物の表面に酸化ホウ素を用いた第1被覆層とリチウムコバルト複合酸化物を用いた第2被覆層とを形成したものを使用した。
請求項(抜粋):
リチウムの吸蔵,放出が可能なスピネル構造になったリチウムマンガン酸化物を用いたリチウム二次電池用正極において、上記のスピネル構造になったリチウムマンガン酸化物の表面に酸化ホウ素とリチウムコバルト複合酸化物とを用いた被覆層が形成されていることを特徴とするリチウム二次電池用正極。
IPC (5件):
H01M 4/02 ,  C01G 45/00 ,  H01M 4/04 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40
FI (5件):
H01M 4/02 C ,  C01G 45/00 ,  H01M 4/04 A ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z
Fターム (35件):
4G048AA04 ,  4G048AB02 ,  4G048AB04 ,  4G048AC06 ,  4G048AD03 ,  4G048AD06 ,  5H029AJ04 ,  5H029AK03 ,  5H029AK19 ,  5H029AL07 ,  5H029AM03 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029BJ03 ,  5H029BJ12 ,  5H029BJ13 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ08 ,  5H029DJ17 ,  5H029EJ05 ,  5H029HJ02 ,  5H050AA09 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CA30 ,  5H050DA09 ,  5H050EA12 ,  5H050FA02 ,  5H050FA18 ,  5H050FA19 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA26 ,  5H050HA02

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