レーザ加工装置及びレーザ加工方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：松尾誠剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-001722
公開番号（公開出願番号）：特開2009-160625
出願日： 2008年01月08日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：

【課題】マイクロデバイスの製造コストを低減することが容易で、かつ、マイクロデバイスの品質を高くすることが容易なレーザ加工装置を提供する。【解決手段】極短パルスレーザ発振装置10と、集光レンズ40と、被加工物載置テーブル42と、回転板22を高速回転することにより所定パルス数の極短パルスレーザ光Lを間欠的に通過させる第1光シャッタ装置20と、回転板22が1回転する期間よりも長い所定の期間、極短パルスレーザ光Lを遮断する機能を有する第2光シャッタ装置32と、極短パルスレーザ発振装置10からの極短パルスレーザ光Lの出力タイミングに同期して、第1光シャッタ装置20の光シャッタ動作及び第2光シャッタ装置32の光シャッタ動作を制御する機能を有する同期制御装置とを備えるレーザ加工装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定パルス間隔で極短パルスレーザ光を連続的に出力する極短パルスレーザ発振装置と、前記極短パルスレーザ発振装置からの極短パルスレーザ光を被加工物に集光させる集光レンズと、前記集光レンズからの極短パルスレーザ光の光軸に垂直な平面内で移動可能な被加工物載置テーブルとを備えるレーザ加工装置であって、前記極短パルスレーザ発振装置と前記集光レンズとの間に配置され、外周部の一部に光通過部を有する回転板を有し、前記回転板を高速回転することにより所定パルス数の極短パルスレーザ光を間欠的に通過させる第1光シャッタ装置と、前記第1光シャッタ装置の前段又は後段に配置され、前記回転板が1回転する期間よりも長い所定の期間、極短パルスレーザ光を遮断する機能を有する第2光シャッタ装置と、前記極短パルスレーザ発振装置からの極短パルスレーザ光の出力タイミングに同期して、前記第1光シャッタ装置の光シャッタ動作及び前記第2光シャッタ装置の光シャッタ動作を制御する機能を有する同期制御装置とをさらに備えることを特徴とするレーザ加工装置。

IPC (3件)：

B23K 26/06 , B23K 26/073 , B23K 26/00

FI (3件)：

B23K26/06 J , B23K26/073 , B23K26/00 M

Fターム (6件)：

4E068AH00 , 4E068CD10 , 4E068CD13 , 4E068CE04 , 4E068DB10 , 4E068DB13

引用特許：

出願人引用 (7件)

成形型の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-054797 出願人：チノンテック株式会社
パルスレーザ光照射装置及び照射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-116310 出願人：日本電気株式会社
レーザ照射装置及びそれを用いた半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-257647 出願人：シャープ株式会社

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