特許
J-GLOBAL ID：200903014680075502
パターン投影装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三澤 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-353471
公開番号（公開出願番号）：特開平7-194550
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、装置の小型化を図れるとともに、被投影体に対するパターンの集光効率が良好なパターン投影装置を提供する。【構成】 本発明のパターン投影装置1は、投影用のパターンと、このパターンを照明する光源4と、前記パターンと光源4との間に配置され、前記光源4により照明されるパターンからの光束を収束するレンズ光学系3とを備えたものである。この構成により、被投影体に対し効率よくパターンを投影できる。
請求項（抜粋）：
投影用のパターンと、このパターンを照明する光源と、前記パターンと光源との間に配置され、前記光源により照明されるパターンからの光束を収束するレンズ光学系とを有することを特徴とするパターン投影装置。
IPC (2件)：
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