特許

J-GLOBAL ID：200903014680378882

表面平滑性に優れた多孔質シリカフィルムの製造方法

発明者： 村 上 雅 美 ,  高 村 一 夫 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  大 池 俊 輔
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-276513
公開番号（公開出願番号）：特開2003-089513
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：

【要約】【解決手段】本発明に係る表面平滑性に優れた多孔質シリカフィルムの製造方法は、アルコキシシラン類を界面活性剤の存在下で部分的に加水分解、脱水縮合して得られた反応溶液に、さらに、25°Cにおける蒸気圧が0〜1.33×103Pa(10mmHg)である有機化合物を添加して得られる塗布液を、基板に塗布することを特徴とする。【効果】本発明の多孔質シリカフィルムの製造方法によれば、光機能材料や電子機能材料に応用可能な、均一な細孔を持ち、かつフィルム表面の平滑性に優れる多孔質シリカフィルムを得ることができる。

請求項（抜粋）：

アルコキシシラン類を界面活性剤の存在下で部分的に加水分解、脱水縮合して得られた反応溶液に、さらに、25°Cにおける蒸気圧が0〜1.33×103Pa(10mmHg)である有機化合物を添加して得られる塗布液を、基板に塗布することを特徴とする表面平滑性に優れた多孔質シリカフィルムの製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/12 ,  B05D 7/24 302 ,  B05D 7/24 303

FI (3件)：

C01B 33/12 C ,  B05D 7/24 302 Y ,  B05D 7/24 303 E

Fターム (39件)：

4D075BB24Y ,  4D075BB28Z ,  4D075CA01 ,  4D075CA18 ,  4D075CA23 ,  4D075CA48 ,  4D075CB06 ,  4D075DA06 ,  4D075DA08 ,  4D075DB04 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC19 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EB16 ,  4D075EB37 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EB56 ,  4D075EC07 ,  4D075EC35 ,  4D075EC51 ,  4D075EC54 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ47 ,  4G072LL15 ,  4G072MM01 ,  4G072NN21 ,  4G072RR05 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17 ,  4G072UU30