特許
J-GLOBAL ID：200903014694772800

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者：
鈴木 聡

鈴木 聡 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-215705
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064868
出願日： 1996年08月15日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 パーティクルの再付着を防止すると共に、パーティクルサイズにかかわらずパーティクルを除去する。【解決手段】 ノズル部15には、周波数が20KHz〜700KHzの範囲の低周波数の超音波振動が伝わるのに充分な流量で吐出可能な吐出口21が設けられており、この低周波数の超音波振動と、超音波振動が比較的伝わりやすい、周波数が800KHz〜3000KHzの範囲の高周波数の超音波振動とを組み合わせて洗浄液に付与ることが可能となって、周波数が高い超音波振動で3μm以下程度の小さなパーティクルを除去でき、周波数の低い超音波振動で10μm以下程度の比較的大きなパーティクルを除去できる。この流水式の超音波洗浄は、溜め水式の超音波洗浄に比べて、基板2から離脱したパーティクルが流水と共に速やかに排出されるため、基板2を再汚染しない。
請求項（抜粋）：
基板に超音波振動が付与された洗浄液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置において、基板を支持する支持手段と、比較的低い周波数の超音波振動を洗浄液に付与する超音波発生器を有すると共に、前記低い周波数の超音波振動が洗浄液中を伝わるのに充分な流量で、支持手段に支持された基板に向けて洗浄液を吐出するノズル部を有することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12
FI (3件)：
H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/12 Z
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開昭59-150584
  • 特開平1-105376
  • 超音波洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-093934   出願人：株式会社国際電気エルテック, 羽田野甫

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