特許

J-GLOBAL ID：200903014696439300

ウェーハ表面の付着有機化合物の評価方法

発明者： 桜井 真理 ,  岡田 千鶴子 ,  森田 悦郎 ,  新行内 隆之
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱マテリアルシリコン株式会社
代理人 (1件)： 桑井 清一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-102243
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275410
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】 ウェーハ表面に付着した有機物の評価を非破壊で簡便に行う。ウェーハをクリーンルーム内で保管した場合の汚染有機化合物の付着状況の判定を簡便に行うことによってクリーンルームの清浄度を評価する。【構成】 ウェーハ表面への汚染有機化合物の付着前後の膜厚の差をエリプソメトリで測定し、同時に接触角の変化も測定して、前記汚染物の定量、定性分析を非破壊検査にて行う。例えばウェーハ表面のSC1洗浄後、膜厚を測定し、所定時間後、界面活性剤でウェーハ表面を洗浄し、その膜厚を測定する。これらの測定値の差により有機物汚染度を判定する。

請求項（抜粋）：

NH4OHおよびH2O2をH2Oで希釈した液で洗浄(以下SC1洗浄と称す)後の所定時間にウェーハ表面へ堆積した付着物の膜厚の増減を測定することにより、および/または、接触角の変化を測定することにより、ウェーハ表面への付着有機化合物の評価を行うことを特徴とするウェーハ表面の付着有機化合物の評価方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  G01R 31/26 ,  H01L 21/66

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-157035
  
• 特開平3-276722
  
• 特開平4-003425